​光学微纳纹理模板制作——光刻胶

光学微纳纹理模板制作——光刻胶光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻半流体材料。最早时期光刻胶是应用在印刷工业领域,到20世纪20年代才被逐渐用在印刷电路板领域,50年代开始用于半导体工业领域。20世纪50年代末,伊士曼柯达Eastman Kodak和施普莱 Shipley 公司分别设计出适合半导体工业需要的正胶和负胶。光刻胶版验版光刻

  • 型号: ​光学微纳纹理模板制作——光刻胶

光学微纳纹理模板制作——光刻胶

光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻半流体材料。最早时期光刻胶是应用在印刷工业领域,到20世纪20年代才被逐渐用在印刷电路板领域,50年代开始用于半导体工业领域。20世纪50年代末,伊士曼柯达Eastman Kodak和施普莱 Shipley 公司分别设计出适合半导体工业需要的正胶和负胶。

光学微纳纹理模板制作——光刻胶

光刻胶版验版

光刻胶是利用曝光区和非曝光区的溶解速率差来实现图像的转移。具体从流程上来解释,由于光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。

光刻胶主要由五种基本成分组成,包括聚合剂、溶剂、感光剂、光敏剂和添加剂。


首页
产品
新闻
联系